|联系我们   Global
 

全自动工业 WLI-AFM 系统



Park NX Hybrid WLI是有史以来第一款具有内置WLI轮廓仪的AFM,用于半导体和相关制造质量保证。例如半导体前端、后端到高级封装的过程控制,以及研发计量。它适用于那些需要在大面积上进行高吞吐量测量的设备,这些设备可以缩小到具有亚纳米分辨率和超高精度的纳米级区域。



半导体计量的两种最佳互补技术。

  • WLI: 白光干涉测量是一种光学技术,它可以对非常宽的区域进行成像,速度非常快,满足高吞吐量测量。
  • AFM: 原子力显微镜是一种扫描探针技术,即使对透明材料也能提供最精确的纳米级分辨率测量。


 扫描区域速度横向分辨率垂直分辨率精度
WLI
AFM 非常高
 WLIAFM
扫描区域
速度
横向分辨率
垂直分辨率 非常高
精度

WLI和AFM在视野,分辨率和速度方面完美结合。



WLI应用需要比WLI 能力更高的分辨率和精度

  • 先进的化学机械抛光计量和监测
  • 先进封装
  • 全掩模的热点和缺陷检测
  • 晶圆级计量

AFM应用需要更大的区域和更高的吞吐量

  • In-line 晶圆计量
  • 长行程CMP轮廓表征
  • 亚埃级表面粗糙度控制
  • 晶圆检验与分析

 

NX-Hybrid WLI 功能

Park WLI系统

  • Park WLI支持WLI和PSI模式(PSI模式由电动过滤器变换器 支持)
  • 可用物镜放大倍数:2.5X 、10X、20X、50X、100X
  • 两个物镜可由电动线性换镜器自动更换




WLI光学干涉测量

  • 扫描 Mirau 物镜高度时,由干涉引起的光强变化可以计算每个像素处的样品表面高度
  • 白光干涉测量 (WLI) 和相移干涉测量 (PSI) 是两种常用的表面表征技术



NX-Hybrid WLI 应用

热点检测和审查

热点快速调查和热点缺陷自动审查

  • 可以通过比较参考和目标样品区域的图像来检测图案结构的热点
  • WLI 的高速“热点检测”可以快速定位缺陷位置,以进行高分辨率 AFM 审查

Park NX-Hybrid WLI