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Park NX-Mask

基于AFM的 EUV光罩修复及其他性能

Park NX-Mask是一款用于修复高端EUV光罩的创新型机台。
Park NX-Mask 采用最新的原子力显微镜技术,配有新一代的
光罩修复系统,用于解决随着器件尺寸缩小和光罩复杂性
增加带来的新式挑战。从自动缺陷检测到缺陷修复再到修复验证的
一站式解决方案为您提供了前所未有的修复效率,
让您的研究工作事半功倍。

  • 无任何类型的缺陷损坏和修复风险
  • 兼容双EUV光罩盒
  • 用于定位缺陷和修复后验证的多效合一型解决方案
 
 

使用AFM探针安全可靠地修复缺陷

来自 EUV 光源的锡 (Sn) 颗粒等碎片可能会落到光罩上并降低其光反射率,导致设备不能进行精确地压印。Park NX-Mask 利用其成熟的纳米机械 AFM 技术,以绝对安全可靠的方式发现并去除外来颗粒、修正复杂的图案缺陷。与传统的光罩修复系统相比,Park NX-Mask能在不造成任何损坏或扰乱光罩表面的情况下精准执行修复。

安全

 
  • 无光束静电
  • 无化学使用
  • 无真空要求

卓越性

 
  • 纳米级分辨率和修复精度
  • 在同一系统可实现检测扫描,到修复,到验证的功能
  • 经济型高品质低成本
 
 

用于自动和无缝修复的
在线生产

Park NX-Mask提供最优的解决方案,支持在线生产的双EUV光罩盒。

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用于定位缺陷和修复后验证的非接触原子力显微镜技术

首先,Park NX-Mask 利用其独有的非接触式 AFM 技术进行全方位扫描以确定缺陷位置。此技术安全高效。在全方位扫描过程中,Park NX-Mask 不仅能精确计算缺陷数量并且精准定位缺陷位置,还能获悉每种颗粒和缺陷的各类信息。 修复后,Park NX-Mask采用AFM真正非接触式技术进行修复后的验证,生成纳米级3D形貌和其他关键性的计量数据,如表面粗糙度。

Photomask Repair - NX-Mask | Park Systems