使用AFM探针安全可靠地修复缺陷
来自 EUV 光源的锡 (Sn) 颗粒等碎片可能会落到光罩上并降低其光反射率。Park NX-Mask 利用其成熟的纳米机械 AFM 技术，以安全可靠的方式发现并去除外来颗粒、修正复杂的图案缺陷。与传统的光罩修复系统相比，Park NX-Mask能在不造成任何损坏或扰乱光罩表面的情况下精准执行修复。
安全
- 无光束静电
- 无化学使用
- 无真空要求
优异性
- 纳米级分辨率和修复精度
- 在同一系统可实现检测扫描，到修复，到验证的功能
- 经济型高品质低成本
用于自动和无缝修复的
在线生产
Park NX-Mask提供专业的解决方案，支持在线生产的双EUV光罩盒。
用于定位缺陷和修复后验证的非接触原子力显微镜技术
首先，Park NX-Mask 利用其专有的非接触式 AFM 技术进行全方位扫描以确定缺陷位置。此技术安全高效。在全方位扫描过程中，Park NX-Mask 不仅能精准计算缺陷数量并且定位缺陷位置，还能获悉每种颗粒和缺陷的各类信息。 修复后，Park NX-Mask采用AFM真正非接触式技术进行修复后的验证，生成纳米级3D形貌和其他关键性的计量数据，如表面粗糙度。
观看产品介绍视频 | NX-Mask
一台专为EUV和In-Line打造的
光罩缺陷修复设备
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