Park NX-Hivac
故障分析和空气敏感材料研究的理想之选
NX-Hivac是一款专为先进半导体和材料研究设计的高真空原子力显微镜(AFM)，可对空气敏感样品进行精确的纳米级分析。通过提供清洁稳定的测量条件，NX-Hivac已成为学术界和工业界实验室值得信赖的平台。
NX-Hivac的核心技术是Park专有的正交扫描系统和真正非接触模式(True Non-contact™)，辅以高真空功能，性能得以进一步提升。这些技术结合在一起，既能保护脆弱的样品，又能精确表征其形貌、力学和电气特性，而这些特性在环境条件或干氮(N2)条件下是无法实现的。
从半导体器件到空气敏感材料，NX-Hivac始终能提供稳定的性能和可靠的结果。它支持先进模式和自动真空控制等多种功能，为研究人员提供了高真空AFM研究的全面解决方案。
NX-Hivac的核心技术是Park专有的正交扫描系统和真正非接触模式(True Non-contact™)，辅以高真空功能，性能得以进一步提升。这些技术结合在一起，既能保护脆弱的样品，又能精确表征其形貌、力学和电气特性，而这些特性在环境条件或干氮(N2)条件下是无法实现的。
从半导体器件到空气敏感材料，NX-Hivac始终能提供稳定的性能和可靠的结果。它支持先进模式和自动真空控制等多种功能，为研究人员提供了高真空AFM研究的全面解决方案。
主要特性
NX-Hivac高真空控制
NX-Hivac可提供高真空环境，以实现可靠的纳米级测量。通过消除环境干扰，它可以实现常温环境或干氮(N2)环境下无法进行的高级研究。其真空腔室可在5分钟内达到10-5托的真空度，内部尺寸为250毫米 × 320毫米 × 270毫米。
低释气腔体材料
NX-Hivac腔室由经过优化的材料制成，可最大限度地减少高真空条件下的气体释放。这一设计缩短了抽真空时间，有助于维持稳定的真空环境，确保测量性能的稳定可靠。
电动光电探测器(A–B)对准
该系统采用超发光二极管(SLD)进行低相干照明，最大程度减少了光学干扰，提高了图像清晰度。通过使用光束和位置敏感光电探测器(PSPD)对准旋钮进行直接的X-Y控制，可实现精确的光束定位。为增加操作便利性，PSPD的A-B轴对准可在真空条件下进行，无需打开腔体。
Hivac管理器
Park Hivac管理器通过一键式抽气和排气，将真空操作简化为快速、轻松的过程。该软件可清晰显示操作流程的每个步骤，并实现工作流程自动化，从而减少操作人员的工作量，提高整体效率。
Z轴扫描直线度提升
Park NX系列Z扫描器可在整个可用范围内将直线度保持在0.1%以内，即使在15 μm全量程扩展时，轴向偏移也始终控制在5 nm以内。其紧凑的组件集预紧弹簧、运动学定位销和压电执行器于一体，可最大限度地减少漂移，确保精确的垂直运动，从而实现可靠、无畸变的纳米级测量。
同轴光学显微镜
高功率同轴光学显微镜可用于清晰观察样品表面。软件控制的LED光源可照亮样品表面，确保更佳的观测效果。
Park AFM 技术
正交扫描
采用管式扫描器的传统AFM会受到平面外运动和轴向串扰的影响，从而导致图像失真，尤其是在大面积扫描时。与所有Park AFM一样，NX-Hivac采用了基于柔性铰链架构的先进正交扫描系统：2D柔性扫描器在XY平面上移动样品，同时由单独的1D柔性扫描器独立控制探针的Z轴运动。该分离式扫描器系统配备用于XY反馈的低噪声光学传感器和用于Z控制的超低噪声应变传感器，可确保高度正交的线性扫描，同时将平面外运动降至最低并具备快速动态响应性能。
XY扫描器采用堆叠式压电执行器和柔性铰链结构，可实现无垂直干扰的平整、纯水平运动。位置传感器位于扫描器的中心，为伺服控制提供直接反馈，从而最大限度地减少扫描区域的定位误差。该设计确保即使在扫描大尺寸样品时，也能保持一致的精度和稳定性。
Park AFM 技术
真正非接触模式(True Non-contact™)
NX-Hivac采用的真正非接触模式(True Non-contact™)，是Park Systems独家提供的专有技术。真正非接触模式通过探测AFM探针与样品表面间的范德华吸引力，来获取样品表面形貌。
