NX-Mask技术说明 (使用AFM进行光罩修复的新技术)
Application Technology Center 介绍 光罩是半导体器件制造中用于晶圆纳米图案化光刻过程中的关键部件。光罩选择性地透射或反射光以在目标衬底中产生图...
使用 Park SmartAnalysis 轻松进行 AFM 数据分析
Research Application Technology Center 随着 Park 开发的 SmartScanTM 操作软件的成功推出，它为纳米级测量的生产力和效率设定了新的标准。出于对快速、稳定地获...
磁力显微镜测量中的静电伪影
介绍 在过去的几十年中，原子力显微镜（AFM）已经深入参与了纳米尺度的研究和开发。虽然已被广泛使用，但对AFM数据的理解有时还是很麻烦，特别是...
半导体和电子器件的AFM失效分析
SSRM AFM，用于半导体失效分析的最佳选择 Park NX-Hivac上提供的高真空扫描扩展电阻显微镜（SSRM），可实现新一代设备的2D载体轮廓分析，并在高真空条件...
Nanomechanical Properties of Lipid Vesicles Using Atomic Force Microscopy
Gabriela Mendoza, Ph.D., Park Systems Mexico. Introduction The unique structures of liposomes – lipid vesicles (spherical structures with a bilayer membrane) of varying size and structural complex...
Park SmartLitho一种利用AFM光刻技术制作纳米图案的新方法
Research Application Technology Center, Park Systems Corp. 介绍 自原子力显微镜（AFM）[1]发明以来，它被广泛应用到了样品表面无损成像中，其电学、磁学和力学等...
利用原子力显微镜对半导体制造中的缺陷进行检测与分类
Sang-Joon Cho, Vice President and director of R&D Center, Park Systems Corp. Ilka M. Hermes, Principal Scientist, Park Systems Europe. 利用原子力显微...
高真空中二维材料的表面电位测量
J. Serron, A.Minj, L. Wouters, T. Hantschel IMEC, Leuven, Belgium 介绍: 随着传统场效应晶体管 (FET) 的逐渐规模化，如何克服短沟道效应的不利影响变得越...
充分发挥潜力 通过边带KPFM对分子聚集体进行电势成像
通过边带KPFM对分子聚集体进行电势成像 Ilka M. Hermes, Andrea Cerreta Park Systems Europe GmbH, Mannheim, Germany 功函数是一种材料特性，可用于区分复合材料中的...
Making the connection. Atomic force microscopy correlates Graphene’s functional properties on the nanoscale
Ilka M. Hermes,1 Simonas Krotkus,2 Ben Conran,3 Clifford McAleese,3 Xiaochen Wang,3 Oliver Whear,3 Michael Heuken2 1 Park Systems Europe GmbH, Mannheim, Germany 2 AIXTRON SE, Herzogenrath,...
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